水處理劑之EDI與混床設(shè)備進(jìn)行比較（一）

  EDI裝置與混床離子交換設(shè)備屬于水處理系統(tǒng)中的精處理設(shè)備,下面將兩種設(shè)備在產(chǎn)水水質(zhì)、投資量及運(yùn)行成本方面進(jìn)行比較,來(lái)說(shuō)明EDI裝置在水處理中應(yīng)用的優(yōu)越性。
  (1)產(chǎn)品水水質(zhì)比較
  EDI裝置是一個(gè)連續(xù)凈水過(guò)程,因此其產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定,電阻率一般為15MΩ·cm,最高可達(dá)18MΩ·cm,達(dá)到超純水的指標(biāo)。混床離子交換設(shè)施的凈水過(guò)程是間斷式的,在剛剛被再生后,其產(chǎn)品水水質(zhì)較高,而在下次再生之前,其產(chǎn)品水水質(zhì)較差。
  (2)投資量比較
  與混床離子交換設(shè)施相比EDI裝置投資量要高約20%左右,但從混床需要酸堿儲(chǔ)存、酸堿添加和廢水處理設(shè)施及后期維護(hù)、樹(shù)脂更換來(lái)看,兩者費(fèi)用相差在10%左右。隨著技術(shù)的提高與批量生產(chǎn),EDI裝置所需的投資量會(huì)大大的降低。另外,EDI裝置設(shè)備小巧,所需廠房遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于混床。